LF-NMR技术与应用第一届学术研讨会

LF-NMR技术与应用第一届学术研讨会

　　为了促进我国低场核磁共振（LF-NMR）技术发展与应用推广，加强不同学科领域间的交叉融合，拟在2009年6月下旬在杭州召开“LF-NMR技术与应用第一届学术研讨会”，现将有关事项通知如下。

　　一、主办单位
　　　　美国明尼苏达州大学
　　　　浙江工商大学
　　　　上海纽迈电子科技有限公司

　　二、会议时间与地点。
　　　　会议时间：2009年6月20日到21日；
　　　　会议地点：中国•浙江•杭州 （具体会议地点待定）

　　三、会议规模
　　　　20～30人

　　四、会议费用

　　　　参会人员往返交通费及住宿费自理，会议不另收会务费。

　　五、会议主题
　　

　　　　会议主题为低场核磁共振成像分析技术在国内外的发展情况与应用交流，会议采用学术交流与讨论的方式进行。

　　六、会务组及联系方式
　　　　此次会议由上海纽迈电子科技有限公司鼎力赞助并承担全部会务组工作。 　　

　　　　联系人：张英力
　　　　邮箱：yl_zhang@niumag.com；